Sistem depotion Vapor kimia yang ditingkatkan Plasma vakum tinggi (PECVD) untuk lapisan film tipis yang membantu plasma-VTC-PECVD

Belum ada ulasan

Henan Mingguan Scientific Instruments Co., Ltd.2 yrs

Arahkan untuk memperbesar

Atribut kunci

Spesifikasi industri inti

Garansi

Satu tahun

Atribut lainnya

Tempat asal

Henan, China

Klasifikasi

Laboratory Heating Equipments

Disesuaikan Dukungan

OEM

Nama merek

MGSI

Nomor model

VTC-PECVD

Berat

200kg

Tegangan

208 fase tunggal-240 VAC 50 / 60Hz

Nama produk

Sistem depilasi uap kimia yang disempurnakan Plasma

Daya sumber RF

300 W, 13.56 MHz

Bahan ruang vakum

Terbuat dari baja tahan karat 304

Dimensi

Dia 300mm * 300 m H

Vakum utama

6E-7 torr

Pompa Turbo

Pompa turbo Pfeiffer 700 L/s

Pompa dukungan

Pompa baling-baling putar 240 L/menit (4L/s)

Ukuran pemegang sampel

100mm Dia. Untuk. Maks wafer 4

Laju aliran

16 L/menit

Kepatuhan

CE penerus

Tampilkan lebih banyak

Waktu tunggu

Kuantitas (Set)	1 - 1	> 1
Estimasi Waktu (hari)	60	Untuk Dinegosiasikan

Deskripsi produk dari pemasok

Kuantitas pesanan minimum: 1 Set

Rp 123.969.495 - Rp 1.239.694.950

Variasi

Opsi total:

Pilih sekarang

Pengiriman

Solusi pengiriman untuk jumlah yang dipilih saat ini tidak tersedia

Membership benefits

Pengembalian dana cepatLihat lebih banyak

Perlindungan untuk produk ini

Pembayaran aman

Setiap pembayaran yang Anda lakukan di Alibaba.com dijamin dengan enkripsi SSL yang ketat dan protokol perlindungan data PCI DSS

Kebijakan pengembalian dana & Easy Return

Klaim pengembalian dana jika pesanan Anda tidak terkirim, hilang, atau tiba dengan masalah produk, ditambah pengembalian lokal gratis untuk produk cacat