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Depositivo de vapor químico potenciado para silicone microcristalino de laboratório versátil PECVD Plasma

Ainda sem avaliações
Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.Fabricante personalizado10 yrsCN

Principais atributos

Outros atributos

Tipo
DCCVD equipment
Tipo de máquina
Intelligent
Saída de vídeo-inspeção
Fornecido
Relatório de Ensaio de máquinas
Fornecido
Tipo de Marketing
New Product 2024
Garantia de componentes principais
1 ANO
Componentes do núcleo
PLC
Lugar de origem
Henan, China
Garantia
1 ANO
Principais Pontos de Venda
Fácil de operar
Indústrias aplicáveis
science experiment
Localização Showroom
Nenhum
Peso (KG)
300
Carcaça
Stainless steel
Circunstância
novo
Revestimento
CVD coating
Marca
CYKY
Tensão
220
Poder (W)
2kW
Dimensão (L*W*H)
1500*800*1800
Tipo de máquina
Equipamentos de revestimento
Product name
PECVD depositing thin films of silicon nitride
Keywords
PECVD depositing thin films of silicon nitride
Supply voltage
AC220V, 50Hz
Ultimate vacuum
0.1~1Pa
Air source configuration
6 gas sources of hydrogen, methane, nitrogen, argon, and oxygen
Gas flow control
MFC
Water cooling system
Stable, generally set at about 20°C
Power
600~1200V, adjusd table 6~15A
Spray head size
Diameter 90mm
Vacuum gauge
High-precision vacuum gauge

Embalagem e entrega

Unidades de Venda:
Item único
Tamanho da embalagem única:
150X80X180 cm
Peso bruto único:
300.000 kg

Tempo até a entrega

Quantidade (Acres)1 - 1 > 1
Tempo estimado (dias)45A ser negociado

Personalização

Customized logo
Pedido Mínimo: 5
Customized packaging
Pedido Mínimo: 5
Graphic customization
Pedido Mínimo: 5

Descrições do produto pelo fornecedor

1 - 4 Acres
€ 28.030,53
>= 5 Acres
€ 27.096,18

Variações

Total de opções:

Envio

As soluções de envio para a quantidade selecionada não estão disponíveis no momento

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